厳しい清浄度要求レベルに対応するろ過技術
プロセスガスのろ過と精製 – 有害な不純物と汚染物質の抽出
ポールのプロセスガスろ過・精製システムは、不純物や汚染物質を除去し、ますます画素密度が高まる中で効率的なディスプレイ製造を可能にします。
この技術には、高い粒子除去効率、高流量／低差圧、アウトガス低減が含まれます。粒子汚染に対して高い透過性があります。
ポールのプロセスガス精製システムは、雰囲気内の不活性ガスや腐食ガスの適合性要件や高温条件を満たすために、PTFE、ステンレス、ニッケル、セラミックメディアなど様々な材料で提供可能です。水分、酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素などの共通の不純物分子を除去します。
これらの不純物は粒子ろ過では除去できません。除去するには材料の反応剤が必要です。プロセスガスのろ過や精製から生じる別の課題として、有害不純物の放出や粒子の発散に対するフィルター能力があります。
ポールは、フィルターや精製部品を構築する際は品質第一とすると共に、適切な材料選択の重要性、清浄度基準、ハウジング表面の処理、製品品質に関する特殊製造工程についての知見があります。
用途:
- バルク供給システム
- ポイントオブユース（POU）
- 大流量ガス
- 高速ベントとロードロックインターフェース
- 真空チャンバー
利点:
- ガス関連の欠陥低減
- 多様なガスをろ過するための特注メディア
- 設備コスト低減（CoO）
- 最先端のフィルター品質
- アウトガスと粒子不純物の低減
ポールのプロセスガスろ過・精製システムは、重要プロセスガス流路からの粒子や不純物を低減するように設計されています。
欠陥を削減し、お客様のプロセス性能を最大限にしシステムを最適化する方法については、当社までお問い合わせください。
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