幅広いメンブレンと優れた化学適合性
リソグラフィ用フィルター – コーティング不良の低減と歩留まり改善
リソグラフィ工程のコーティングでは、粒子、金属、有機材、気泡などを排除しなければなりません。欠陥のないフィルム形成を実現するために、フィルターには汚染源を最小化する一方で高い捕捉性が求められます。
ポールのリソグラフィ用フィルターは、様々な膜材料を使用し、リソグラフィ用薬液の汚染や欠陥を効果的に除去します。薬品使用量やフィルター交換に関する立ち上げ時間を低減し、より精細な除去特性や前の製品に勝る優れた初期清浄度を提供します。
適切なリソグラフィ用フィルターを選定するためには、いくつかの要素を検討する必要があります。バルクフィルターとポイントオブユース（POU）ディスペンス・フィルターは、不要な粒子の付着を削減します。
POUフィルターは、あらゆる精密ディスペンスシステムにおいて不可欠であり、ウエハーのコーティング欠陥を低減させるためには、フィルターを慎重に選択する必要があります。ポイントオブユース・ディスペンスの最適設計、流路設計、優れたパージ特性はいずれも不可欠です。
粒子やゲルの除去性能の他、マイクロバブル発生防止、少ない薬液消費量、薬液との適合性などはすべて、POUフィルターを選択する上で重要な要素です。
PGMEA、PGME、EL、 GBL、シクロヘキサノンを含む様々なリソグラフィ溶液と化学的に適合します。
ポールのフィルター最適設計により、立ち上げ時の薬液使用量が減り、大きな表面積を実現します。結果的に、低差圧によりゲルの除去効率を高めるとともに、マイクロバブルの発生を抑えます。低い運転圧力により、工程中にレジスト液が高圧から低圧へ吐出される際、フィルターでレジスト液がガスになって発生することがありません。
利点:
- 装置ダウンタイムの減少
- 高い歩留まり
- 薬液とディスペンスノズルの長寿命化
- あらゆるリソグラフィ用途に対応できる多様なメンブレン
- 高速ベント設計（マイクロバブル発生の最小化）
- 薬液使用量の削減
ポールのリソグラフィ用フィルター技術は、製造工程を合理化し、ディスペンスシステムのダウンタイムを削減すると共にウエハー表面の欠陥を低減します。
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