ドライプロセスの最適化
半導体製造向け高純度ガスの精製
半導体製造工程では、線幅が微細化するとともに、プロセスが複雑化し、新たな課題が絶え間なく発生します。
これまで問題とならなかった不純物でも、ウェハー上の欠陥やプロセス品質の劣化、歩留まり低下を招きます。
プロセスガス中の不純物分子は、欠陥の要因としての懸念が高まっています。一般的な不純物分子には、水分や酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、ハイドロカーボン、金属カルボニルなどがあります。
これらの不純物は、粒子除去の精密ろ過フィルターでは除去できないため、除去用の専用反応剤が必要です。ガス流路から不純物分子を除去するプロセスをガス精製と呼びます。
ポールのガス精製器は、不純物との反応性に優れた100％無機の精製剤を有しています。不活性ガスや、希ガス、非可燃性ガス、ハイドライドガス、パーフロロカーボンガス、腐食性ガスなどのガス中の不純物に対し、サブppbレベルの精製能力を備えています。
用途:
- 不活性ガス
- 希ガス
- 非可燃性ガス
- ハイドライドガス
- パーフロロカーボンガス、腐食性ガス
利点:
- プロセスの安定化
- プロセスの効率化
- 欠陥の低減
- 既存フィルターの設置場所に改造なしで設置可能
- 多種のガス腫に対応できる製品ラインナップ
- 管理コストの低減
粒子除去用の精密ろ過フィルターで除去できない不純物の精製にはプロセスガス用精製器が効果的です。
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