半導体

半導体業界において、ポールの高性能製品は、プロセスガスのろ過、超純水、ウェットエッチ、洗浄など、幅広い用途で使用されています。当社が開発・製造しているろ過・分離・精製製品は、半導体業界の技術革新とともに数十年にわたる実績から生まれたものです。

CMP、リソグラフィ向けでは、お客様と協力して、スラリーやレジストなどさまざまな流体向けに対応できる、より効率的で経済的な製品の開発に継続的に取り組んでいます。

当社のろ過・分離・精製製品は、製造工程に必要な機能、品質を備え、コスト削減、生産性向上を実現することにより、多くの半導体メーカーのお客様から選ばれております。

半導体製造プロセスにおいては、有害な分子汚染を排除し最小にする技術が不可欠です。ポールフィルターは、より微細なコンタミ（汚染物）を除去するとともに、高流量を実現します。ろ過精度の微細化と高流量ろ過は、同時には成立できないトレードオフの関係から、高度な技術開発が求められています。このような高度な要求に応えるために、当社独自のウルチプリーツ構造やフィルターメディア技術を駆使し、されにフィルターケージの大口径化により、ろ過精度の微細化と高流量を両立しました。

ポールは、EPA指令2010/15 PFOA自主削減プログラムに従い、フロロポリマー材料の製造において、プロセス促進剤としてのパーフロロオクタン酸（PFOA）の使用を完全に排除しました。このプログラムは、世界最大のフロロポリマー・メーカーとそのエンドユーザーによって世界的に採用されています。「PFOAフリー」とは、PFOAを一切使用せずに製造されたフィルター材料であることを示します。ウェットエッチや洗浄用途でのフロロポリマー・フィルター成分はすべて、PFOAフリーの材料認証を取得しています。

イソプロピル・アルコール（IPA）は、半導体産業におけるウエハー乾燥工程において一般的に使用されている薬液です。半導体デバイスの微細化が進むにつれ、IPA中の汚染制御レベルも一層厳しくなってきています。こうした汚染を低減するために、ろ過技術は重要な役割を担っており、このニーズに応えるため、ポールは市場で最先端の技術を提供するべく注力しています。厳しくなる汚染制御レベルに合わせて、IPA用フィルターが除去する粒子サイズを小さくすることが求められています。もう一つ、IPA用のフィルターには、フィルター自体からの溶出物を最小限にすることが要求されます。従来、一般的に使用されていたHDPE膜を使用したフィルターに代わり、PTFE膜フィルターがより多く使用されるようになってきています。

半導体デバイス製造の進化とともに、ナノレベルのコンタミ除去が求められています。当社は市場の進化とともに、要求に合致した製品作りに邁進していきます。