コスト削減、歩留まり向上
多様な膜材料、ろ過精度、形状を持つポールフィルターが半導体リソグラフィ工程の 生産性・品質向上に寄与
ポールのリソグラフィ用フィルターは、様々な膜材料を使用し、リソグラフィ用薬液の汚染を効果的に除去します。ウエハー表面への粒子汚染、ゲル・マイクロブリッジ欠陥、マイクロバブル・ボイド欠陥、金属汚染の可能性を除去します。
湿潤性が高い膜は、カプセル内部の液置換性に優れており、マイクロバブルの発生が少なく、パージ時間も短く済みます。
フィルターの最適化設計により、立ち上げ時の薬液使用量が減り、ウエハー表面で欠陥となる気泡を抑えることができます。気泡除去性能、マイクロバブル発生の防止は、コーティング欠陥を削減し、歩留まりを増大させる上で重要です。“ウルチプリーツ”フィルターの設計構造により、フィルターにおける差圧が小さいため、ディスペンス時の気泡の発生を最小限に抑えます。
当社の革新的なフィルター構造により、ろ過表面積が大きく、圧力損失が低く、ゲルの除去効率を高めるとともに、マイクロバブルの発生を抑えます。
ディスペンス用フィルターの膜面積を最大限に広くしたことで、レジストからゲルが効率的に除去され、フィルター膜からウエハー表面へのゲルの溶出も防止します。
低い運転圧力により、薬液ディスペンス時の圧力降下による発泡も防止します。こうした効果は、ポールの非対称膜メンブレンのような低い圧力損失を特長とするフィルターで最もよく得られます。
ナイロン6,6や高密度ポリエチレン（HDPE）のメンブレンは、一般的なリソグラフィ用レジスト液に適合し、溶出物に関して極めて清浄で、湿潤性にも優れています。
ポールのリソグラフィ用フィルターは、複雑なレジスト液内の粒子を最小に抑えます。適切なフィルターの選定は、薬液消費量の削減、ウェハー表面の欠陥の削減、パーティクルや金属による汚染防止のために重要なポイントとなります。
用途:
適切なリソグラフィ工程用フィルターを選定するためには、いくつかの要素を検討する必要があります。バルクフィルターとポイントオブユース（POU）ディスペンス・フィルターは、不要な粒子を除去します。
POUフィルターは、あらゆる精密ディスペンスシステムにおいて不可欠であり、ウエハーのコーティング欠陥を低減させるためには、フィルターを慎重に選定する必要があります。
粒子やゲルの除去性能の他、マイクロバブル発生防止、少ない薬液消費量、薬液との適合性などは、フィルター選定上、重要な要素です。ポールのPOUカプセルフィルターは、ベントとドレンがカプセルの一番上と下にあり、完全かつ容易にベントが行われる構造になっています。
利点:
- 装置ダウンタイムの減少
- 高い歩留まり
- 優れた湿潤性による素早い立ち上がり
- あらゆるリソグラフィ用途に対応できる多様なメンブレン
- 迅速ベント構造によるマイクロバブル発生の最小化
- ホールドアップ量の低下で薬液使用量を削減
ポールのリソグラフィ用フィルターの技術は、製造工程を合理化し、ディスペンス装置のダウンタイムを削減しながら、ウエハー表面の欠陥を最小にします。
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Filtration Products Compatibility Guide
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