순도 높고 엄격한 솔루션
공정 가스 여과 및 정제 – 유해 불순물 및 오염 물질 추출
당사의 공정 가스 여과 및 정제 시스템은 불순물과 오염 물질을 제거하여 픽셀 밀도를 증가시키면서 디스플레이를 효율적으로 제조할 수 있도록 설계되었습니다. 이 기술은 높은 입자 제거 효율성, 높은 유량/낮은 차압 및 낮은 가스 배출 등의 기능을 가지고 있습니다. 분자 오염에 대해 매우 투명합니다.
Pall 공정 가스 정제 시스템은 PTFE, 스테인리스 스틸, 니켈 또는 세라믹 배지와 같은 다양한 소재로 제공되어 주변 온도 또는 고온 조건에서 불활성 또는 부식성 가스의 호환성 요건을 충족시킬 수 있으며 수분, 산소, 이산화탄소, 일산화탄소 및 탄화수소를 포함한 공통 분자 불순물을 제거합니다. 이러한 불순물은 입자 여과로는 제거할 수 없으며 반응 물질 베드를 사용하여 제거해야 합니다. 공정 가스 필터링 및 정제에서 발생하는 또 다른 문제는 필터의 유해 불순물 배출 및 입자 방출 가능성입니다. Pall은 필터 및 정화 부품을 구성할 때 품질을 우선시하며, 제품 품질과 관련하여 적절한 소재 선택, cleanliness 수준, 하우징 표면 준비 및 특수 제조 공정의 중요성을 인식하고 있습니다.
용도:
- 벌크 분배 시스템
- POU(Point of Use)
- 대용량 유량 가스
- 급속 벤팅 및 부하 잠금 인터페이스
- 진공 챔버
이점:
- 가스 관련 결함 감소
- 다양한 가스를 필터링할 수 있도록 맞춤화된 맞춤형 배지
- 낮은 소유 비용(CoO)
- 업계 최고의 필터 품질
- 가스 배출 및 입자 불순물 감소
당사의 공정 가스 여과 및 정제 시스템은 중요한 가스 흐름의 공정에서 입자 및 불순물을 줄이기 위해 설계되었습니다. Pall 전문가에게 문의하면 시스템 최적화를 통해 결함을 제거하고 현장의 성능을 극대화할 수 있습니다.
공정 효율성 개선에 대한 자세한 내용은 당사의 여과 전문가 팀에 문의하십시오.
최적의 솔루션을 ‘함께’ 찾아드립니다.
모든 것의 시작은 소통입니다. 혁신적인 여과 솔루션을 지금 바로 여러분과 공유하고 싶습니다. 저희가 어떻게 도와드릴 수 있을지 당사의 분야별 전문가에게 문의해 주십시오. 감사합니다. 곧 도와드리겠습니다.
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