새로운 고유량 서브 1nm  PE-Kleen 필터

1nm 이하 등급의 새로운 필터는 초고순도, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE) 매체 및 고밀도 폴리에틸렌(HDPE) 하드웨어 재료로 구성됩니다. 

HDPE는 우수한 경질 입자 제거로 알려진 고성능 재료로, 첨단 EUV 레지스트 재료를 포함하여 고급 리소그래피 공정에 사용되는 대부분의 화학 물질에 이상적입니다.  기존 리소그래피 필터 물질에 비해 cleanliness와 입자 제거 성능이 크게 개선되었습니다.  

새로운 고유량 서브 -1 nm PE-Kleen 필터는 고급 리소그래퍼가 결함 감소 전략에 사용할 수 있는 추가 도구입니다. 

새로운 고유량 서브 1nm PE-Kleen 필터는 Pall의 Xpress 세척 공정을 거쳐 금속, 유기물 및 미립자 청정도가 우수하며 특히 가장 진보된 패터닝 화학물질을 위해 설계되었습니다. 

고유량, 최고의 제거 등급 및 Xpress 세척의 조합은 탁월한 결함 감소 필터 조합을 만듭니다.